デバイス >
マスクレス露光装置 [MLA150]
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ハイデルベルグ・インスツルメンツ |
| 型番 | MLA 150 |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 [MLA150] |
| 装置スペック | ・露光方式：DMD ・露光モード：スキャニング露光 ・光源 375nm半導体レーザー ・照度 7.2W/cm2 ・位置決め精度 ±1um以下 ・重ね合わせ精度 ±1um以下 ・試料サイズ 最大8インチ角 |
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