デバイス >
低ダメージ精密エッチング装置
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | 住友精密工業 |
| 型番 | Spica |
| 設備名称 | 低ダメージ精密エッチング装置 |
| 装置スペック | プラズマ励起方式:誘導結合型 ICP出力:最大1kW バイアス出力:最大300W フッ素系ガスユニット:CHF3, CF4, C4F8, SF6, Ar, O2, N2 塩素系ガスユニット:Cl2, SiCl4, SF6, Ar, O2, N2 試料ステージ温度:10℃～30℃ 最大試料サイズ:6インチΦ |
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