デバイス >
高真空Eガン蒸着装置 (High-vaccum electon beam evaporator)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 東京科学大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | エイコーエンジニアリング |
| 型番 | 特注品 |
| 設備名称 | 高真空Eガン蒸着装置 (High-vaccum electon beam evaporator) |
| 装置スペック | ロードロックチャンバ付 6連E-gun 6kW 3連EBガン×2 到達真空度: 5e-8Torr以下 基板サイズ: 20mm角まで 蒸着原材料: Ti,Pd,Ni,Cr,Au |
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