デバイス >
二周波励起プラズマエッチング装置
学内学外とも共用
| 設置機関 | 東海国立大学機構・名古屋大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | 低温プラズマ科学研究センター |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | キヤノンアネルバ社製 |
| 型番 | I-4100 SV? |
| 設備名称 | 二周波励起プラズマエッチング装置 |
| 装置スペック | 次世代ULSI製造プロセス開発に向けた新規代替ガス評価とその開発 プロセスガス：Fluorocarbon、Ar、N2、O2、H2 サンプルサイズ：Si 8インチウエハ |
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