デバイス >
ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置
学内学外とも共用
| 設置機関 | 東海国立大学機構・名古屋大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | 低温プラズマ科学研究センター |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | NUエコ・エンジニアリング社製 |
| 型番 | SS/MRI-N |
| 設備名称 | ラジカル計測付多目的プラズマプロセス装置 |
| 装置スペック | 基板温度、ラジカル、マルチ分光器、FTIRを用いてエッチングの際に生成する温度、ラジカル密度、励起種、表面分析をIn-situで行う。 プロセスガス：H2、N2、Ar、O2、He 基板温度：－10℃...[詳細] |
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