X線光電子分光分析装置
学内学外とも共用
| 設置機関 | 東海国立大学機構・名古屋大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | 全学技術センター |
| 設備分類 | 表面分析 > XPS |
| 製造元 | アルバック・ファイ株式会社 |
| 型番 | PHI Quantes |
| 設備名称 | X線光電子分光分析装置 |
| 装置スペック | 走査型モノクロX線源（CrKα，AlKα）Al：7.5～200umφ Cr：14～200umφ、デュアルソースイオン銃（Ar単原子、Arガスクラスターイオン（GCIB））、帯電中和銃、測定可能サイズ...[詳細] |
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