デバイス >
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec) |
| 型番 | DELTA80 T3/VP SPEC-KU |
| 設備名称 | 厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater ) |
| 装置スペック | 高粘度レジスト対応の最大6スピンコータシステム。 ・基板サイズ：Φ4、Φ6、小片基板 ・対応レジスト：タンク圧送（10～400cP、800～4,000cP）、シリンジ圧送（10～600cP） ・溶剤リンス：パドル、エッジビード、バックサイド ・GRYSET方式対応 ・付帯設備：ホットプレート、ベーパープライマ（HMDS） |
この設備情報の修正依頼
掲載内容に不備がある場合、情報が古い場合などはこちらから修正の報告をお願いします。