デバイス >
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.) |
| 型番 | KRC-150CBU |
| 設備名称 | レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater ) |
| 装置スペック | 汎用的な枚葉式スピンコーター。 ・基板サイズ：Φ2～Φ6 □4-□5 ・搭載レジスト：THMR-iP1800EP（10cP）、TDMR-AR80HP（5cP） ・エッジリンス付 |
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