デバイス >
近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | GenISys(株) (GenISys Inc.) |
| 型番 | BEAMER Full Package |
| 設備名称 | 近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System) |
| 装置スペック | 電子線描画装置、レーザー描画装置用の最適露光データ作成のための支援ツール。 ・近接効果補正（PEC）：2Dドーズ補正、形状補正、3D補正、コーナー補正 ・光近接効果補正（OPC）：線形補正、コーナー補正、全体形状補正 ・グレイスケール露光における補正 ・入出力フォーマット：エリオニクス社、アドバンテスト社、ハイデルベルグ社 ・モンテカルロ法によるPSF値の導出対応。 |
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