デバイス >
マスクレス露光装置
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ハイデルベルグ・インストルメンツ |
| 型番 | MLA 150 |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 |
| 装置スペック | ・光源：レーザーダイオード（主波長375nm） ・最小描画線幅：1.0 ?m、最小描画L/S：1.2 ?m ・ワークサイズ：5 mm ～ 6 inchマスク、厚み：0.1 mm～10 mm ・露光均一性：120 nm（3σ） ・オートフォーカス：光学式・空気式の選択可 ・アライメント精度：5 mm×5 mmの範囲： 250 nm（3σ）、100 mm×100 mmの範囲： 500 nm（3σ） ・裏面アライメント制精度：1 ?m |
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