デバイス >
移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
| 型番 | MUM-0001 |
| 設備名称 | 移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography) |
| 装置スペック | UV露光中にマスクを周期移動させることで3次元微細構造を実現。 ・基板サイズ：Φ4 ・3次元微細構造製作可能 |
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