デバイス >
両面マスクアライナー (Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ズース・マイクロテック |
| 型番 | MA6 BSA SPEC-KU/3 |
| 設備名称 | 両面マスクアライナー (Manual High Precision Double-Sided Mask Aligner) |
| 装置スペック | 高性能手動両面マスクアライナ装置。 ・光源：高圧UVランプ350W（h、i線） ・基板サイズ：Φ4"、Φ6" ・露光モード：コンタクト（ソフト、ハード）、プロキシミティ ・アライメント精度 ：±0.5um＠表面、 ±0.1um＠裏面 ・厚膜レジスト対応 |
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