デバイス >
電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION) |
| 型番 | EB-1200 |
| 設備名称 | 電子線蒸着装置 (Electron Beam Evaporator) |
| 装置スペック | リフトオフ対応の電子線蒸着装置 ・基板サイズ：MAX Φ6×3枚 ・電子銃：10kW 4連E型電子銃（22ml x 4） ・温度：RT～300℃（ハロゲンランプ） ・蒸着源-基板間距離：300mm（リフトオフ対応） ・蒸着材料：Al、Ti、Cr、Ni、Au、Pt、Ag、Pd ほか |
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