デバイス >
真空蒸着装置（２） (Thermal Evaporator No.2)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)サンバック (SANVAC CO., LTD.) |
| 型番 | RD-1400 |
| 設備名称 | 真空蒸着装置（２） (Thermal Evaporator No.2) |
| 装置スペック | 真空中で抵抗加熱蒸発源により物質を蒸発させ、電極・マスク材等の金属膜を作製することができます。 ・抵抗加熱方式 電極数量 3式(切り替え方式） ・基板 Φ4インチおよびΦ6インチウェハ ・基板加熱温度 最高350℃ |
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