デバイス >
ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | Obducat |
| 型番 | Eitre3 |
| 設備名称 | ナノインプリントシステム (Nanoimprint Lithography) |
| 装置スペック | 最大3インチの基板サイズ対応の一括転写ナノインプリント装置 ・基板サイズ φ3 ・インプリント方式 STU/熱/UV、全面一括 ・最高到達温度（熱インプリント時） 250℃ |
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