デバイス >
真空プローバ (Vacuum Probe System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | カスケード・マイクロテック(株) (Cascade Microtech, Inc.) |
| 型番 | PLV50 |
| 設備名称 | 真空プローバ (Vacuum Probe System) |
| 装置スペック | Φ150mm基板まで対応できるマニュアルプローブシステム (-40℃～+200℃過調制御可能) ・チャックサイズ：Φ150mm，Φ100mm，小片基板 ほか ・チャック温度：-40～+200℃ ・真空チャンバー 制御圧力：10～10-2Pa |
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