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名称 機関 メーカー 共用範囲
SmartLab (Kα1)
粉末X線回折装置 (XRD)
東京大学
リガク (Rigaku)
学内学外とも共用
JES-FA300
電子スピン共鳴装置 (Electron spin resonator)
東京大学
日本電子株式会社 (JEOL)
学内学外とも共用
M-2000U
分光エリプソメータ (M-2000DI-T)
東京大学
ジェー・エー・ウーラム・ジャパン (J.A.Woollam)
学内学外とも共用
PPMS-14LHattt
極限環境下電磁物性計測装置 (Physical Property Measurement System (PPMS))
東京大学
日本カンタム・デザイン (Quantum Design Japan)
学内学外とも共用
-
環境制御マニュアルプローバステーション (Environmental control manual prober station)
東京大学
東陽テクニカ 他
学内学外とも共用
NanoSIMS 50L
超微量元素計測システム (SIMS)
東京大学
カメカ (Cameca)
学内学外とも共用
PHI 5000 VersaProbe III with AES
多機能走査型X線光電子分光分析装置(XPS)with AES (X-ray Photoelectron Spectroscopy with AES)
東京大学
アルバックファイ (ULVAC-PHI)
学内学外とも共用
JEM-ARM1250
原子直視型超高圧電子顕微鏡 (Ultra-high voltage electron microscope)
東京大学
日本電子株式会社 (JEOL Ltd.)
学内学外とも共用
EM UC7
ウルトラミクロトーム (Ultramicrotome)
東京大学
ライカバイオシステムズ? (Leica Microsystems K.K.)
学内学外とも共用
F5112+VD01
高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
FA-1
卓上アッシング装置 (Compact Ashing Machine)
東京大学
サムコ (SAMCO)
学内学外とも共用
PEM800
光リソグラフィ装置PEM800 (Photomask aligner PEM-800)
東京大学
ユニオン (UNION)
学内学外とも共用
F7000S-VD02
超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
MA6
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
東京大学
ズースマイクロテック (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
DWL66+
レーザー直接描画装置 (Laser Drawing System)
東京大学
ハイデルベルグ (Heidelberg)
学内学外とも共用
ADE-3000S(Big)
枚葉式ZEP520自動現像装置 (ZEP520 Auto Developing Machine)
東京大学
アクテス京三 (Actes Kyosan)
学内学外とも共用
ACT-300A?S
スプレーコーター (Spray Coater)
東京大学
アクティブ (ACTIVE)
学内学外とも共用
Beamer
電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)
東京大学
GenISys (GenISys GmbH)
学内学外とも共用
LOA34-8-5-09
枚葉式自動リフトオフ装置 (Automatic liftoff system)
東京大学
エイ・エス・エイ・ピイ (ASAP)
学内学外とも共用
AEP-3000S
自動フォトマスクエッチング装置
東京大学
アクテス京三 (株)
学内学外とも共用
DWL66+ (2024,375nm)
レーザー直接描画装置DWL66+2024
東京大学
ハイデルベルグ
学内学外とも共用
APPS-30
枚様式HMDS処理装置
東京大学
リソテックジャパン
学内学外とも共用
CE-300I
汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine)
東京大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
Plasma Pro 100 ICP-180
川崎ブランチ化合物用エッチング装置 (Inductively Coupled Plasma (ICP) Dry Etching System, )
東京大学
オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
学内学外とも共用
-
気相フッ酸エッチング装置 (Vapor Phase HF Etcher )
東京大学
IDONUS
学内学外とも共用
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自然科学研究機構 分子科学研究所 機器センター
電話番号:0564-55-7457
MAIL : ic-pub_es@ims.ac.jp
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