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名称 機関 メーカー 共用範囲
SEC-B04
四源蒸着装置
東京科学大学
先端研究基盤共用促進事業
日本シード
学内学外とも共用
LA-100
ロードロック室
東京科学大学
先端研究基盤共用促進事業
エイコー
学内学外とも共用
-
逆スパッタ機構
東京科学大学
先端研究基盤共用促進事業
エイコー
学内学外とも共用
EX-300
3連Eガン蒸着装置 ( Elecrton beam evaporator with 3 pocket)
東京科学大学
アルバック
学内学外とも共用
特注品
高真空Eガン蒸着装置 (High-vaccum electon beam evaporator)
東京科学大学
エイコーエンジニアリング
学内学外とも共用
ICP-101RF
ICPリアクテブイオンエッチング装置 (ICP Reactive ion etcher)
東京科学大学
サムコ
学内学外とも共用
ICP-400iP
ダイヤモンド用ICPリアクテブイオンエッチング装置 (ICP Reactive ion etcher for diamond)
東京科学大学
サムコ
学内学外とも共用
PD-100ST
SiO2プラズマCVD 装置 (SiO2 Plasma enhanced CVD)
東京科学大学
サムコ
学内学外とも共用
Multiplex-CVD
SiN/a-SiプラズマCVD 装置 (SiN/a-Si plasma enhanced CVD)
東京科学大学
住友精密工業
学内学外とも共用
-
クリーンルーム付帯設備一式 (Equipments for clean room)
東京科学大学
-
学内学外とも共用
EVG620NT
UVナノインプリント露光装置 (UV Nanoimprint Lithography System)
東京科学大学
EVG
学内学外とも共用
特注品
イオンビームスパッタ装置 (Ion Beam Sputter)
早稲田大学
伯東株式会社 (Hakuto Co., Ltd.)
学内学外とも共用
EVC-1501
電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vaper Deposition system )
早稲田大学
キヤノンアネルバ株式会社 (CANON ANELVA CORPORATION)
学内学外とも共用
EBX-6D
電子ビーム蒸着装置?(Electron Beam Vaper Deposition system )
早稲田大学
株式会社アルバック (ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
SUNALE R-150
原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition Systems)
早稲田大学
PICOSUN JAPAN株式会社 (Picosun Japan Co. Ltd.)
学内学外とも共用
特注品
精密めっき装置群+ドラフト群 (plating system)
早稲田大学
特注品 (Custom-made products)
学内学外とも共用
PR500
プラズマアッシャー (Plasma Asher)
早稲田大学
ヤマト科学株式会社 (Yamato Scientific Co., Ltd.)
学内学外とも共用
RIE-101iPH
ICP-RIE装置 (Inductively Coupled Plasma reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
RIE-10NR
CCP-RIE装置 (Capacitive Coupled Plasma reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
RIE-400iPB
Deep-RIE装置 (deep reactive ion etching)
早稲田大学
サムコ株式会社 (Samco Inc.)
学内学外とも共用
MA6
紫外線露光装置 (ultraviolet lithography)
早稲田大学
ズース マイクロテック グループ (SUSS MicroTec Group)
学内学外とも共用
ELS-7500
電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithography Exposure)
早稲田大学
株式会社エリオニクス (ELIONIX INC.)
学内学外とも共用
MLA150
レーザー直接描画装置 (Advanced Maskless Aligner )
早稲田大学
ハイデルベルグ・ジャパン株式会社 (Heidelberger Druckmaschinen AG)
学内学外とも共用
プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A
高耐圧デバイス測定装置+ 高耐圧プローバ (high votage semiconductor device analyzer)
早稲田大学
プローバ:長瀬産業株式会 (特注品) 測定装置:アジレント社製B1505A (NAGASE & CO., LTD.)
学内学外とも共用
プローバ:長瀬産業社製(特注品) 測定装置:アジレント社製B1500A LCRメータ4284A
高性能半導体デバイス アナライザ+プローバ (semiconductor device analyzer)
早稲田大学
キーサイト・テクノロジー株式会社 (Keysight Technologies, Inc.)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構 分子科学研究所 機器センター
電話番号:0564-55-7457
MAIL : ic-pub_es@ims.ac.jp
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