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名称 機関 メーカー 共用範囲
SPC-2000HC
スパッタリング蒸着装置 (Sputtering Deposition Apparatus)
名古屋工業大学
産学官金連携機構
アルバック (ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
JIS-300AK/ DBO-1KP-0
真空蒸着装置群 (Vacuum Deposition Equipment)
名古屋工業大学
産学官金連携機構
シンク/ MBRAUN (Sinku of Technology Co., Ltd./ MBRAUN)
学内学外とも共用
自作
中規模カーボンナノファイバー室温合成装置 (Room-Temperature Carbon Nanofiber Growth System (for Medium Sized Samples))
名古屋工業大学
産学官金連携機構
自作 (Home-made)
学内学外とも共用
特型
特型表面ナノ構造形成装置 (Nanostructure Fabrication System)
名古屋工業大学
産学官金連携機構
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
自作
グラフェン・カーボンナノチューブ合成装置 (Chemical Vapor Deposition System for Graphene and Carbon Nanotubes Growth)
名古屋工業大学
産学官金連携機構
自作 (Home-made)
学内学外とも共用
CFS-4ES
スパッタ(金属、絶縁体)蒸着装置 (Sputtering vapor depositing equipment)
豊田工業大学
芝浦エレテック (Shibaura eletec Corporatoin)
学内学外とも共用
BC2925(特注装置)
多機能薄膜作製装置 (Sputtering vapor depositing / Molecular vapor epitaxy equipment)
豊田工業大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
Fiji F200
原子層堆積装置 (Atomic layer deposition:ALD)
豊田工業大学
Ultratech/Cambridge Nano Tech (Ultratech/Cambridge Nano Tech)
学内学外とも共用
MX-1204
マスクレス露光装置 (Maskless exposure equipment)
豊田工業大学
大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
学内学外とも共用
MA6
マスクアライナ装置 (Mask aligner)
豊田工業大学
ズース・マイクロテック (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
VPA-100改造
レジスト処理(アッシング)装置 (Asher)
豊田工業大学
VICインターナショナル (VIC international)
学内学外とも共用
特注
洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers)
豊田工業大学
東朋テクノロジー (Toho Technology Co.)
学内学外とも共用
縦型:MD-100P 横型:4001PSI
シリコン専用の各種熱処理(酸化、拡散)装置一式 (Thermal treatment furnaces (oxidation, diffusion))
豊田工業大学
縦型:ディー・エス・アイ テクノロジー 横型:光洋サーモシステム (縦型:DSITechnology Co.LTD 横型:Koyo Thermo Systems Co., Ltd.)
学内学外とも共用
RIE-10NR
Reactive Ion Etching 装置(非Boschプロセス) (Reactive ion etching equipment (Non-Bosch))
豊田工業大学
サムコ (Samco Inc.)
学内学外とも共用
Multiplex-ASE-SRE-SE
Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス) (Reactive ion etching equipment (Bosch))
豊田工業大学
住友精密工業 (Sumitomo Precision Products CO.,LTD.)
学内学外とも共用
IM-4-1
イオンミリング装置 (Ion milling)
豊田工業大学
日立ハイテクフィールディング (Hitachi High-Tech Fielding Corporation)
学内学外とも共用
ADM-6DBV
ダイシング装置 (Dicing equipment)
豊田工業大学
岡本工作機械製作所 (okamoto machine tool works,LTD)
学内学外とも共用
CABL-AP50S/RD
電子ビーム描画装置 (Electron beam drawing equipment)
豊田工業大学
クレステック
学内学外とも共用
RPD-PCS4/LC
反応性プラズマ蒸着(RPD)装置
豊田工業大学
住友重機械工業
学内学外とも共用
ELS-F125HS
超高精細高精度電子ビーム描画装置
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
エリオニクス
学内学外とも共用
DWL200 LD3D
レーザー直接描画装置
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH社
学内学外とも共用
D-light DL-10000GS/KCH
マスクレス露光装置
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
ナノシステムソリューションズ
学内学外とも共用
NSR-2205i11D
露光装置(ステッパー)
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
ニコン
学内学外とも共用
EB1100 スパッタ装置
多元スパッタ装置(仕様A)
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
キヤノンアネルバ
学内学外とも共用
EB1100 スパッタ装置(仕様B)
多元スパッタ装置(仕様B)
京都大学
学際融合教育研究推進センター ナノテクノロジーハブ拠点
キヤノンアネルバ
学内学外とも共用
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自然科学研究機構 分子科学研究所 機器センター
電話番号:0564-55-7457
MAIL : ic-pub_es@ims.ac.jp
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