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名称 機関 メーカー 共用範囲
FlexAL
原子層堆積装置_1[FlexAL] (Atomic Layer Deposition_1〔FlexAL〕)
産業技術総合研究所
オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
学内学外とも共用
MAT-200KS
ウェハー酸化炉 (Oxidation Furnace)
産業技術総合研究所
マテルス (MATELS)
学内学外とも共用
K-89PS40μR, K-89PS150μR
四探針プローブ抵抗測定装置 (Four Point Probe Resistance Measurement System)
産業技術総合研究所
ケースレーインスツルメンツ (Keithley Instruments)
学内学外とも共用
PD-220SN
プラズマCVD薄膜堆積装置(SiN) (Plasma-assisted CVD (SiN))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
RIE-400iPS
化合物半導体エッチング装置(ICP-RIE) (ICP-RIE (Compound Semiconductors))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
MJC_708fT-0114200SCSHP4284A
マニュアルウエハープローバー(2F) (Manual Wafer Prober)
産業技術総合研究所
MJCKEYTHLEYHP (MJCKEYTHLEYHP)
学内学外とも共用
RTP-6S
赤外線ランプ加熱炉(RTA) (RTA Furnace)
産業技術総合研究所
アドバンス理工 (ADVANCE RIKO)
学内学外とも共用
KLO-150CBU
高圧ジェットリフトオフ装置 ((High Pressure Jet Lift-off Equipment)
産業技術総合研究所
カナメックス (Kanamex)
学内学外とも共用
ELS-F130AN
高速電子ビーム描画装置(エリオニクス) (Electron Beam Lithography System (Elionix))
産業技術総合研究所
エリオニクス (ELIONIX)
学内学外とも共用
BEAMER
解析用PC(CAD及び近接効果補正用) (PC (PEC and CAD))
産業技術総合研究所
ジェニシス (GenISys)
学内学外とも共用
i-Miller
RF-DCスパッタ成膜装置(芝浦) (RF-DC Sputter Deposition Equipment(Shibaura))
産業技術総合研究所
芝浦メカトロニクス (SHIBAURA)
学内学外とも共用
EIS-200ERP
ECRスパッタ成膜・ミリング装置 (ECR sputter deposition and milling system)
産業技術総合研究所
エリオニクス (ELIONIX)
学内学外とも共用
AD-100LP
サムコ原子層堆積装置_2[AD-100LP] (Atomic Layer Deposition_2〔AD-100LP〕)
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
PlasmaPro_100_Cobra
Si深堀エッチング装置〔PlasmaPro_100〕 (Si Deep RIE)
産業技術総合研究所
オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
学内学外とも共用
FlexAL
原子層堆積装置_3〔FlexAL〕 (Atomic Layer Deposition_3〔FlexAL〕)
産業技術総合研究所
オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
学内学外とも共用
Quantera II
原子層堆積装置_3付帯XPS装置(アルバック・ファイ) (X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis System (XPS))
産業技術総合研究所
アルバック・ファイ (ULVAC-PHI,)
学内学外とも共用
FlexAL
原子層堆積装置_4〔FlexAL〕 (Atomic Layer Deposition_4〔FlexAL〕)
産業技術総合研究所
オックスフォードインスツルメント (Oxford Instruments Plasma)
学内学外とも共用
ADS-E86
6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック) (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
産業技術総合研究所
アールデック (R-DEC)
学内学外とも共用
DWL66+
レーザー描画装置〔DWL66+〕 (Laser Beam Lithography)
産業技術総合研究所
ハイデルベルグ (Heidelberg Instruments)
学内学外とも共用
-
環境制御マニュアルプローバステーション (Environmental control manual prober station)
東京大学
東陽テクニカ 他
学内学外とも共用
F5112+VD01
高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
FA-1
卓上アッシング装置 (Compact Ashing Machine)
東京大学
サムコ (SAMCO)
学内学外とも共用
PEM800
光リソグラフィ装置PEM800 (Photomask aligner PEM-800)
東京大学
ユニオン (UNION)
学内学外とも共用
F7000S-VD02
超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
MA6
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
東京大学
ズースマイクロテック (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構 分子科学研究所 機器センター
電話番号:0564-55-7457
MAIL : ic-pub_es@ims.ac.jp
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