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名称 機関 メーカー 共用範囲
CFS-4EP-LL
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #2]
物質・材料研究機構
芝浦メカトロニクス
学内学外とも共用
MB-501010
電子銃型蒸着装置 [MB-501010]
物質・材料研究機構
エイコー・エンジニアリング
学内学外とも共用
SUNALE R-150
原子層堆積装置 [SUNALE R-150]
物質・材料研究機構
PICOSUN JAPAN
学内学外とも共用
CE300I
ICP-RIE装置 [CE300I]
物質・材料研究機構
アルバック
学内学外とも共用
RTP-6
赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #1]
物質・材料研究機構
アドバンス理工
学内学外とも共用
DAD3220
ダイシングソー [DAD3220]
物質・材料研究機構
ディスコ
学内学外とも共用
HMP-400
室温プローバー [HMP-400]
物質・材料研究機構
ハイソル
学内学外とも共用
GRAIL-408-32-B
低温プローバー [GRAIL-408-32-B]
物質・材料研究機構
ナガセテクノエンジニアリング
学内学外とも共用
7476D
ワイヤーボンダー [7476D #1]
物質・材料研究機構
ウェスト・ボンド
学内学外とも共用
MLA 150
マスクレス露光装置 [MLA150]
物質・材料研究機構
ハイデルベルグ・インスツルメンツ
学内学外とも共用
JBX-8100FS
電子ビーム描画装置
物質・材料研究機構
日本電子
学内学外とも共用
Spica
低ダメージ精密エッチング装置
物質・材料研究機構
住友精密工業
学内学外とも共用
CFS-4EP-LL
スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #4]
物質・材料研究機構
芝浦メカトロニクス
学内学外とも共用
ADS-E810
電子銃型蒸着装置
物質・材料研究機構
アールデック
学内学外とも共用
CABL_9410TFNA
電子ビーム描画装置(CRESTEC) (Electron Beam Lithography System (CRESTEC))
産業技術総合研究所
クレステック (CRESTEC)
学内学外とも共用
DL1000
マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System)
産業技術総合研究所
ナノシステムソリューション (Nano System-Solutions)
学内学外とも共用
MJB4
コンタクトマスクアライナー[MJB4] (Contact Mask Aligner〔MJB4〕)
産業技術総合研究所
ズース (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
NSR-2205i12D
i線露光装置 (i-Line Stepper)
産業技術総合研究所
ニコン (Nikon)
学内学外とも共用
RIE-200L
反応性イオンエッチング装置 (RIE) (Reactive Ion Etching System(RIE))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
RIE-101iPHS-L
多目的エッチング装置(ICP-RIE) (ICP Reactive Ion Etching System(ICP-RIE))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
-
電子ビーム真空蒸着装置 (Electeron Beam Vacuum Evaporator)
産業技術総合研究所
エイコーエンジニアリング (EIKO ENGINEERING)
学内学外とも共用
KIS_3
抵抗加熱型真空蒸着装置 (Resistance Heating Vacuum Evaporator)
産業技術総合研究所
ビームトロン (Biemtron)
学内学外とも共用
i-Miller
スパッタ成膜装置(芝浦) (Sputtering System(Shibaura))
産業技術総合研究所
芝浦メカトロニクス (SHIBAURA)
学内学外とも共用
-
メッキ装置 (Electroplating Equipment)
産業技術総合研究所
山本鍍金試験器 (Yamamoto-ms)
学内学外とも共用
PD-20SS
プラズマCVD薄膜堆積装置 (Plasma-assisted CVD(TEOS/SiO2))
産業技術総合研究所
サムコ (Samco)
学内学外とも共用
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電話番号:0564-55-7457
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